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氧化鑭鈰稀土拋光液

氧化鑭鈰稀土拋光液產(chǎn)品特點(diǎn):穩定性高、分散性好、拋光速度快、磨削力強、無(wú)拋光缺陷、可循環(huán)使用。 應用領(lǐng)域:該系列產(chǎn)品主要用于集成電路、半導體硅片、電子芯片等產(chǎn)品的拋光。

內容介紹 / introduce
  氧化鑭鈰稀土拋光液的關(guān)鍵技術(shù):公司采用合成濕法磨工藝制成高純度超細納米級鈰基稀土拋光粉,通過(guò)將高純度超細納米級鈰基稀土拋光粉液體化,按照相應的比例和參數,物理合成適量的稀土元素,通過(guò)中和、壓縮、過(guò)濾、分級等工藝,使產(chǎn)品滿(mǎn)足不同拋光產(chǎn)品和材質(zhì)的要求。

  其產(chǎn)品性能:根據不同磨料和拋光產(chǎn)品,采用專(zhuān)用加工和配方,使產(chǎn)品表面的光潔度和光滑度達到技術(shù)要求,避免了拋光過(guò)程中的劃傷和缺陷。

  產(chǎn)品特點(diǎn):穩定性高、分散性好、拋光速度快、磨削力強、無(wú)拋光缺陷、可循環(huán)使用。

  應用領(lǐng)域:該系列產(chǎn)品主要用于集成電路、半導體硅片、電子芯片等產(chǎn)品的拋光。
  


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